Выпускаемое оборудование
ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА V-700 "О" ELI. ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ОПТИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ.
- Подробности
- Просмотров: 5131
Вакуумная установка предназначена для нанесения в вакууме покрытий методом электронно-лучевого, магнетронного и резистивного испарения различных материалов с предварительной ионной очисткой на базе криогенной откачки.
В частности в настоящее время установка используется для нанесения слоев АuGe-Аu и
Ni-Аl на подложке из GaAs. Высоковакуумная откачная система на базе криогенного насоса.
Управление откачной системой, системой пневматической, системой гидравлической-на базе промышленного логического контроллера немецкого производства,
обеспечивающего высокую надежность, гибкое изменение алгоритмов управления и замену средств управления. Рабочее место оператора, установки параметров и
режимов технологических устройств, управление блоками питания испарителей, напуска газов, системой кварцевого контроля - на базе персонального
компьютера под Windows 2000/XP. Программное обеспечение SCADA - системы в среде Visual С++ .
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ.
Высота камеры 600мм;
Диаметр камеры 640мм;
Частота вращения технологической оснастки 0...20 об/мин
Загрузка технологической оснастки (для пластин 50 GaAs) 48 шт;
Максимальная температура нагрева подложек 350С;
Мощность, потребляемая установкой, не более 25 кВт.
Предельный остаточный вакуум 5*10-4 Па.
СОСТАВ УСТАНОВКИ.
| № п/п. |
Наименование |
Количество |
| 1 |
Высоковакуумный откачной модуль на базе |
1 |
| 2. |
Форвакуумный агрегат НВР 25Д/НД 200 |
1 |
| 3. |
Высоковакуумный затвор Ду 250 |
1 |
| 4. |
Камера вакуумная с дверью |
1 |
| 5. |
Нагреватели внутрикамерные |
2 |
| 6. |
Технологическая оснастка со сменным |
1 |
| 7. |
Электронно-лучевой испаритель |
1 |
| 8. |
Резистивный испаритель |
1(2) |
| 9. |
Ионный источник травления |
1 |
| 10. |
Магнетронный испаритель |
4 |
| 11. |
Система гидравлическая (SMC) |
1 |
| 12. |
Система пневматическая (SМС) |
1 |
| 13. |
Система кварцевого контроля толщины |
1 |
| 14. |
Стойка управления |
1 |
| 15. |
Стойка питания УЭЛИ |
1 |
| 16. |
Стойка питания магнетронов, источника |
1 |
Установка по согласованию заказчика может комплектоваться технологической
оснасткой под изделия, системой фотометрического контроля покрытий
(спектровизор), системой управления с полной автоматизацией процессов
нанесения покрытий.