Дуговой испаритель точечный

Дуговой испаритель предназначен для нанесения покрытий методом вакуумно-дугового испарения. Дуговой разряд, возникающий на поверхности мишени формирует эмиссионную зону (катодное пятно). За счет высокой температуры катодного пятна происходит испарение и ионизация материала катода и образование высокоскоростных потоков плазмы. Стабилизация положения пятна дуги и его фокусировка обеспечивается при помощи электромагнитных катушек. В качестве испаряемого материала используются: титан, хром, цирконий, гафний, алюминий, медь, и другие металлы, а также их сплавы. Дуговой испаритель оснащён системой автоматического поджига, обеспечивающей высокую стабильность и надёжность при высоком ресурсе устройства.